电感耦合式等离子清洗系统及其在微波管制造中的应用

等离子清洗技术最初被用于加速器或核聚变装置中大型真空室内壁的表面清洁，相对于传统工业使用的湿法清洗，具有操作方便、清洗彻底、无二次污染、对环境破坏小等优点，广泛应用于金属、陶瓷及封接件、玻璃等材料的表面清洁。

现有的等离子清洗系统大多采取电容极板耦合(capacitorcoupledplasma，CCP或CP)输出方式，将电容极板安装在真空室内，通过电极将射频激励源接入真空室内，在一定的真空条件下，电容极板问加射频电压加速电子产生并维持等离子体，将被清洗零件置于极板间，达到清洗的目的，这种清洗方式在半导体、材料表面分析等行业中已经得到了广泛的应用，收到了很好的效果，但是在微波管制造过程中，经反复试验发现，被清洗零件经CCP清洗后，发生了不同程度的污染，零件的绝缘强度降低。比较后发现，电感耦合方式(InductivelyCoupledePlas—ma，ICP)更适合在微波管制造中使用，ICP是等离子应用发展后期出现的一种新型方式，具有离子能量损失小，效率高，等离子体密度强等优点，特别是经过合理的结构设计可将电感线圈置于真空室外，避免了清洗过程中的极板溅射，因此清洗效果更为理想，本文简要介绍了ICP系统的设计制造和应用效果。

离子清洗原理等离子体是正离子和电子的密度大致相等的电离气体。由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成，是物质的第四态。通常情况下，人们普遍认为的物质有固态、液态、气态三态。区分这三种状态是靠物质中所含能量的多少。气态是物质的三个状态中最高的能量状态。给气态物质更多的能量，比如加热，将会形成等离子体。当到达等离子状态时，气态分子裂变成了许许多多的高度活跃的粒子。这些裂变不是永久的，一旦用于形成等离子体的能量消失，各类粒子重新结合，形成原来的气体分子。与湿法清洗不同，等离子清洗的机理是依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。从目前各类清洗方法来看，等离子体清洗也是所有清洗方法中最为彻底的剥离式的清洗方式。1

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